| 发明名称 |
FLOW OF HALIDE GAS WHERE PLASMA IS NOT USED TO PREVENT METALLIC RESIDUE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1027787(A) |
申请公布日期 |
1998.01.27 |
| 申请号 |
JP19970081310 |
申请日期 |
1997.03.31 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
STEVE GANAYAMU;MORRIS COLI;MAITORIII MAHAJANI;LAVI RAJAGOPARAN |
| 分类号 |
C23C16/02;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C23C16/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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