发明名称 DEVICE FOR MAKING WASTE GAS HARMLESS FOR SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号 JPH1024207(A) 申请公布日期 1998.01.27
申请号 JP19960182519 申请日期 1996.07.11
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 ITO KAZUYUKI
分类号 B01D46/04;H01L21/304;(IPC1-7):B01D46/04 主分类号 B01D46/04
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利