| 发明名称 |
METHOD FOR TREATING WASTE LIQUID CONTAINING SURFACTANT AND RADIOACTIVE MATERIAL, AND TREATMENT DEVICE THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1020090(A) |
申请公布日期 |
1998.01.23 |
| 申请号 |
JP19960178943 |
申请日期 |
1996.07.09 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
NISHI TAKASHI;MATSUDA MASAMI;BABA TSUTOMU;YOSHIKAWA RYOZO;YUKITA ATSUSHI |
| 分类号 |
G21F9/06;G21F9/12;(IPC1-7):G21F9/06 |
主分类号 |
G21F9/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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