首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Verfahren zur Herstellung eines Bipolartransistors
摘要
申请公布号
DE68928482(D1)
申请公布日期
1998.01.22
申请号
DE1989628482
申请日期
1989.08.08
申请人
SONY CORP., TOKIO/TOKYO, JP
发明人
GOMI, TAKAYUKI C/O PATENTS DIVISION SONY CORP., SHINAGAWA-KU TOKYO 141, JP
分类号
H01L29/73;H01L21/331;H01L29/08;H01L29/10;H01L29/36;H01L29/732;(IPC1-7):H01L29/732
主分类号
H01L29/73
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
屏蔽罩、半导体封装件及其制法暨具有该屏蔽罩之封装结构
建筑模型影像显示系统及其方法
电动低底盘式车辆
混合式电力转换系统
可配置集成无线电处理器
可调光之发光二极体照明系统及其驱动装置与驱动方法
透过闸道器伺服器或服务以存取云端运算服务储存的多媒体装置
搬送控制装置及附回流库之纸页监别装置
用于组装电接触件以确保共面性之热压装置与方法
经由虚拟专用网路来建立连接之方法及设备
具多层介金属层的焊点结构
设置于胶层上的半导体封装件及其制法
记忆体系统
触控装置
儿童座椅
基板处理方法
光学镜头模组及其制程
参考电压缓冲器与其方法
液晶介质及液晶显示器
单分子层或多分子层形成用组成物