| 发明名称 |
Method for wet processing of a semiconductor substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2287827(B) |
申请公布日期 |
1998.01.21 |
| 申请号 |
GB19950006105 |
申请日期 |
1995.03.24 |
| 申请人 |
* NEC CORPORATION |
发明人 |
HIDEMITSU * AOKI;MAKOTO * MORITA;MIKIO * TSUJI |
| 分类号 |
C09K13/00;B08B3/08;B08B3/10;C02F1/46;C02F1/461;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/30 |
主分类号 |
C09K13/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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