| 发明名称 |
PLASMA-ETCHING EQUIPMENT AND PLASMA ETCHING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1012597(A) |
申请公布日期 |
1998.01.16 |
| 申请号 |
JP19960159517 |
申请日期 |
1996.06.20 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OTSUBO TORU;MASUDA TOSHIO;TANAKA JUNICHI;KAJI TETSUNORI;WATANABE KATSUYA |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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