| 发明名称 |
Process for forming deposited film by use of alkyl aluminum hydride and process for preparing semiconductor device |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG45420(A1) |
申请公布日期 |
1998.01.16 |
| 申请号 |
SG19960006901 |
申请日期 |
1990.09.25 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA. |
发明人 |
TSUBOUCHI KAZUO;MASU KAZUYA;MIKOSHIBA NOBUO |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/320 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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