System zur Erzeugung eines Plasmas mit hoher Dichte,申请号DE19926018924T-传众专利搜索

发明名称	System zur Erzeugung eines Plasmas mit hoher Dichte
摘要
申请公布号	DE69218924(T2)	申请公布日期	1998.01.15
申请号	DE19926018924T	申请日期	1992.02.04
申请人	PLASMA & MATERIALS TECHNOLOGIES, INC., CHATSWORTH, CALIF., US	发明人	CAMPBELL, GREGOR, A., GLENDALE, CA 91202, US;CONN, ROBERT, W., LOS ANGELES, CA 90025, US;PEARSON, DAVID, C., ASHFORD, KENT RN23 1JS, GB;DECHAMBRIER, ALEXIS, P., CALIFORNIA 912081, US;SHOJI, TATSUO YOMEI-RYO YOMEI-CHO 1-5, NAGOYA, JP
分类号	C23C14/34;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32	主分类号	C23C14/34
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