发明名称 |
LITHOGRAPHY EXPOSURE DEVICE AND LITHOGRAPHY PROCEDURES |
摘要 |
Um eine Lithographie-Belichtungseinrichtung umfassend eine Aufnahme (38) für ein Substrat (36), eine Belichtungseinheit (10, 12, 14, 16) zur Erzeugung eines Lichtflecks auf der lichtempfindlichen Schicht (34) des Substrats, eine Bewegungseinheit (40) zur Erzeugung einer Relativbewegung zwischen der Belichtungseinheit und der Aufnahme und eine Steuerung zur Intensitäts- und Lagesteuerung des Lichtflecks auf der lichtempfindlichen Schicht zu schaffen, mit welcher mittels Lithographie mit grosser Effizienz kleine Strukturen in kurzen Zeiträumen herstellbar sind, wird vorgeschlagen, dass die Belichtungseinheit eine Vielzahl von Halbleiterlasern (10) umfasst, dass die Strahlführungsoptik (16) die Laserstrahlung jedes Halbleiterlasers zu einem Lichtfleck eines definierten Lichtfleckmusters führt und dass das gesamte Lichtfleckmuster und die Aufnahme in einer Belichtungsbewegungsrichtung relativ zueinander bewegbar und dabei die Lichtflecken des Lichtfleckmusters entsprechend der Form der zu belichtenden Teilbereiche aktivierbar oder deaktivierbar sind. |
申请公布号 |
WO9800760(A1) |
申请公布日期 |
1998.01.08 |
申请号 |
WO1997EP03053 |
申请日期 |
1997.06.12 |
申请人 |
DEUTSCHE FORSCHUNGSANSTALT FUER LUFT- UND RAUMFAHRT;INSTITUT FUER MIKROELEKTRONIK STUTTGART (STIFTUNG D;BRAUCH, UWE;OPOWER, HANS;HOEFFLINGER, BERND;SPRINGER, REINHARD |
发明人 |
BRAUCH, UWE;OPOWER, HANS;HOEFFLINGER, BERND;SPRINGER, REINHARD |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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