| 发明名称 |
Method for forming field oxide film of semiconductor device |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
GB9723797(D0) |
申请公布日期 |
1998.01.07 |
| 申请号 |
GB19970023797 |
申请日期 |
1997.11.11 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
|
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/306;H01L21/76;H01L21/762 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
