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LA INVENCION SE REFIERE A UN SILICIO METALURGICO CON MICROESTRUCTURA CONTROLADA PARA LA PREPARACION DE HALOGENOSILANOS, CARACTERIZADO EN QUE, CUANDO UNA IMAGEN DE LA MICROESTRUCTURA OBTENIDA CON MICROSCOPIO ELECTRONICO DE BARRIDO SE TRATA POR BINARIZACION ENTRE UNA FASE INTERMETALICA Y UNA MATRIZ DE SILICIO, TRAS LA DILATACION DE LAS ZONAS QUE CORRESPONDEN A LA FASE INTERMETALICA CON UNA EXTENSION ALREDEDOR DE ESTAS ZONAS DE 10 MICRONES, LA RELACION S/SO DE LAS FRACCIONES DE SUPERFICIES DE LA FASE INTERMETALICA ENTRE LA IMAGEN DILATADA Y LA IMAGEN ANTES DE LA DILATACION ESTA COMPRENDIDA ENTRE 20 Y 40. EL SILICIO SEGUN LA INVENCION ASEGURA UNA REACTIVIDAD ELEVADA A LA REACCION DE ROCHOW PARA LA FABRICACION DE HALOGENOSILANOS DESTINADOS A LA PREPARACION DE SILICONAS.
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