| 发明名称 |
DISPOSITIF D'INJECTION DE GAZ DANS UN REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2739871(B1) |
申请公布日期 |
1997.12.26 |
| 申请号 |
FR19950012114 |
申请日期 |
1995.10.11 |
| 申请人 |
SGS THOMSON MICROELECTRONICS SA |
发明人 |
DUTARTRE DIDIER |
| 分类号 |
B01J4/02;C23C16/455;C30B25/14;(IPC1-7):C23C16/44;C30B23/02 |
主分类号 |
B01J4/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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