发明名称 新型通孔外形及其制造方法
摘要 一种防止通路分层的高性能和高可靠度的新型互连结构。本发明的互连结构包括伸进并底割下层互连线(202)、将连接通路(212)固定在互连线(202)中的连接通路(212)。
申请公布号 CN1168739A 申请公布日期 1997.12.24
申请号 CN95196649.9 申请日期 1995.07.14
申请人 英特尔公司 发明人 A·M·迈尔斯;P·K·查维特;T·A·莱特森;杨事宁;P·白
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;萧掬昌
主权项 1.一种用于集成电路的互连结构,包含:一个互连;和一个通路连接,其中该通路连接伸进上述互连中并且底割该互连。
地址 美国加利福尼亚州