In basischem Medium entwickelbarer, negativer Photoresist und seine Verwendung,申请号DE1992620163T-传众专利搜索

发明名称	In basischem Medium entwickelbarer, negativer Photoresist und seine Verwendung
摘要
申请公布号	DE69220163(T2)	申请公布日期	1997.12.18
申请号	DE1992620163T	申请日期	1992.09.04
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK, N.Y., US	发明人	BABICH, EDWARD D., CHAPPAQUA, N.Y. 10514, US;GALLIGAN, EILEEN A., HOPEWELL JUNCTION, N.Y. 12533, US;GELORME, JEFFREY D., PLAINVILLE, CONNECTICUT 06062, US;MCGOUEY, RICHARD P., CARMEL, N.Y. 10512, US;NUNES, SHARON L., HOPEWELL JUNCTION, N.Y. 12533, US;PARASZCZAK, JURIJ R., PLEASANTVILLE, N.Y. 10570, US;SERINO, RUSSELL J., RIDGEFIELD, CONNECTICUT 06877, US;WITMAN, DAVID F., PLEASANTVILLE, N.Y. 10570, US
分类号	G03F7/004;G03F7/029;G03F7/038;G03F7/075;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/038	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
主权项
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