发明名称 | 透明导电叠层及使用该透明导电叠层的电致发光元件 | ||
摘要 | 透明导电叠层,其透明基一个主表面上形成主要含铟、锡和氧的透明导电层,它具极佳耐湿热和耐划伤性,可用于各种透明电极。透明导电层具稳定非晶结构,电阻率不高于1×10<SUP>-2</SUP>Ω·cm,电子迁移率不低于20cm<SUP>2</SUP>/(V·sec)。其制法为:在高氧浓度下用溅射工艺在基片上形成主要含铟、锡和氧且电阻率高于1×10<SUP>-2</SUP>Ω·cm的非晶薄膜,在80-180℃下热处理使电阻率降到不高于1×10<SUP>-2</SUP>Ω·cm并保持非晶结构。 | ||
申请公布号 | CN1168076A | 申请公布日期 | 1997.12.17 |
申请号 | CN96121391.4 | 申请日期 | 1996.12.20 |
申请人 | 三井东压化学株式会社 | 发明人 | 山崎文晴;冈村友之;福田伸;福田信弘 |
分类号 | H05B33/28 | 主分类号 | H05B33/28 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴大建 |
主权项 | 1.一种透明导电叠层,其特征在于:主要包含铟、锡和氧的非晶透明导电层形成在透明基片的一个主表面上,当进行热处理时,所说透明导电层保持非晶状态。 | ||
地址 | 日本东京都 |