| 发明名称 | 基片的洗涤方法 | ||
| 摘要 | 从基片、特别是从硅晶体基片上除去粘附粒子的方法，该方法包括用氨水-过氧化氢水洗涤、超纯水漂洗、氢氟酸洗涤和超纯水漂洗，在该方法中，向氢氟酸中，及如有必要，还向氨水-过氧化氢水混合液中添加阴离子型表面活性剂。采用该方法，可以使得在氨水-过氧化氢水洗涤工序中一旦脱离开的粒子在氢氟酸洗涤工序中不再被吸附，因此粒子的除去率显著地提高。 | ||
| 申请公布号 | CN1168194A | 申请公布日期 | 1997.12.17 |
| 申请号 | CN96191411.4 | 申请日期 | 1996.01.11 |
| 申请人 | 大金工业株式会社 | 发明人 | 板野充司;毛健彦;陶山诚 |
| 分类号 | H01L21/304 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 钟守期;杨丽琴 |
| 主权项 | 1.一种用于从基片上除去粘附粒子的基片洗涤方法，该方法包括：(1)用氨水-过氧化氢水洗涤；(2)用超纯水漂洗；(3)使用含有阴离子表面活性剂的氢氟酸洗涤；以及(4)用超纯水漂洗。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||