| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE USING THE SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09326427(A) |
申请公布日期 |
1997.12.16 |
| 申请号 |
JP19960145238 |
申请日期 |
1996.06.07 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OKADA DAISUKE;ASAKA KATSUYUKI |
| 分类号 |
G01N21/00;H01L21/322;H01L21/66;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
G01N21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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