| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09326383(A) |
申请公布日期 |
1997.12.16 |
| 申请号 |
JP19960142566 |
申请日期 |
1996.06.05 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KAJI TETSUNORI;OTSUBO TORU;KAZUMI HIDEYUKI;WATANABE KATSUYA |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/50;C23C16/507;C23C16/515;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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