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<p>Es hat sich gezeigt, daß der Einfluß von Luftdruckschwankungen auf die bei der thermischen Oxidation von siliziumhaltigen Substraten erzeugten Oxiddicken störend ist. Die vorliegende Erfindung löst dieses Problem dadurch, daß der Luftdruck gemessen wird und die aufgrund der auftretenden Schwankungen des Luftdruckes zu erwartenden Schwankungen der Oxiddicken über die Regelung zumindest einer der Meß- und Regelgrößen Temperatur, Gasflußraten, Gasmischungen und Oxidationszeit kompensiert werden.</p> |
