| 发明名称 |
PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND PLASMA ETCHING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09312268(A) |
申请公布日期 |
1997.12.02 |
| 申请号 |
JP19960128832 |
申请日期 |
1996.05.23 |
| 申请人 |
SHARP CORP |
发明人 |
SAKAI OSAMU;NOMOTO KATSUHIKO;TANIGUCHI HIROSHI;TOMITA KOJI;YAMAMOTO YOSHIHIRO |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/50;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/205;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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