摘要 |
Hochauflösendes lichtstarkes Objektiv vom katadioptrischen Typ mit einer Objektebene (1), einer ersten Linsengruppe (LG1) einer zweiten Linsengruppe (LG2), einem Strahlteiler (17,18,22,P), einem Konkavspiegel (21), vorzugsweise keinen Linsen zwischen Strahlteiler (17,18,22,P) und Konkavspiegel (21), der Systemblende (A) zwischen Strahlteiler (17,18,22,P) und Konkavspiegel (21) oder am Konkavspiegel (21) oder am Strahlteiler (17,18,22,P), einer dritten Linsengruppe (LG3), einer Bildebene (35) in der angegebenen Reihenfolge, einem Reduktionsmaßstab (β) von -0,4 bis -0,15, vorzugsweise -0,25, einer bildseitigen numerischen Apertur größer als 0,5, vorzugsweise 0,6 bis 0,75, wobei die erste (LG1) und die zweite (LG2) Linsengruppe insgesamt, vorzugsweise auch die zweite (LG2) Linsengruppe alleine, den Sinus des Randstrahlwinkels reduzieren, und zwar um bis zu 40 %. Bevorzugt wird, daß der Sinus des Randstrahlwinkels (sin RLG1) nach der ersten Linsengruppe (LG1) nicht kleiner als der Sinus des Randstrahlwinkels (sin Rreticle) in der Objektebene (1) ist. Das Objectiv ist für Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen vorgesehen. <IMAGE>
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