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发明名称
RECESSED COIL FOR GENERATING A PLASMA
摘要
A recessed coil for a plasma chamber in a semiconductor fabrication system is provided. Recessing the coil reduces deposition of material onto the coil which in turn leads to a reduction in particulate matter shed by the coil onto the workpiece.
申请公布号
WO9742648(A1)
申请公布日期
1997.11.13
申请号
WO1997US08008
申请日期
1997.05.08
申请人
APPLIED MATERIALS, INC.
发明人
SUBRAMANI, ANANTHA;FORSTER, JOHN;STIMSON, BRADLEY, O.;EDELSTEIN, SERGIO;GRUNES, HOWARD;TEPMAN, AVI;XU, ZHENG
分类号
H05H1/46;C23C14/35;C23C16/50;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/285;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
主权项
地址
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