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发明名称 Verfahren zum Herstellen einer mehrschichtigen Halbleiterstruktur
摘要
申请公布号 DE19716791(A1) 申请公布日期 1997.11.13
申请号 DE19971016791 申请日期 1997.04.22
申请人 NATIONAL SEMICONDUCTOR CORP., SANTA CLARA, CALIF., US 发明人 CHEN, HUNG-SHENG, SAN JOSE, CALIF., US;NGUYEN, TIM, MILPITAS, CALIF., US
分类号 H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/283;H01L21/334;H01L21/31;H01L21/302 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
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