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发明名称 Pattern inspection apparatus and electron beam apparatus
摘要
申请公布号 EP0518633(B1) 申请公布日期 1997.11.12
申请号 EP19920305311 申请日期 1992.06.10
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 HONJO, ICHIRO;SUGISHIMA, KENJI;YAMABE, MASAKI
分类号 G03F1/00;H01J37/244;H01J37/30;(IPC1-7):H01J37/30;H01J37/305 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
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