发明名称 Verfahren zur Herstellung antistatischer Schichten für photographische Elemente
摘要
申请公布号 DE69402464(T2) 申请公布日期 1997.11.06
申请号 DE19946002464T 申请日期 1994.05.20
申请人 EASTMAN KODAK CO., ROCHESTER, N.Y., US 发明人 STIMSON, RONALD MILLER, C/O EASTMAN KODAK CO, ROCHESTER, NEW YORK 14650-2201, US;SKORONSKI, JAMES, C/O EASTMAN KODAK CO., ROCHESTER, NEW YORK 14650-2201, US;SMITH, THOMAS MICHAEL, EASTMAN KODAK CO., ROCHESTER, NEW YORK 14650-2201, US;HOLT, JACK JAMES, EASTMAN KODAK CO., ROCHESTER, NEW YORK 14650-2201, US
分类号 G03C1/85;C09K3/16;G03C1/89;(IPC1-7):G03C1/85 主分类号 G03C1/85
代理机构 代理人
主权项
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