发明名称 | 涡旋流体排放设备 | ||
摘要 | 一种涡旋流体排放设备包括静止涡旋10和运转涡旋20,两涡旋的相互接合的卷缘各具有一个不设置与镜面加工的相对涡旋表面接触的末端密封件31A的第一卷缘部分(LF1,LO1),从而形成空末端密封槽空间,第一卷缘部分覆盖从卷缘在其周围侧边缘向中心侧的预定长度。第二卷缘部分(LF1,LO2)带有与镜面加工的相对涡旋表面接触的末端密封件,第二卷缘部分具有与第一卷缘部分相邻至卷缘中心侧边缘的剩余卷缘范围。在与现有技术相同的驱动电机额定功率和相同的电机每分转数的情况下,压缩流体可在高于现有技术的排放压力下排出。 | ||
申请公布号 | CN1163990A | 申请公布日期 | 1997.11.05 |
申请号 | CN96123604.3 | 申请日期 | 1996.12.27 |
申请人 | 阿耐思特岩田株式会社 | 发明人 | 川添新二 |
分类号 | F04C18/02 | 主分类号 | F04C18/02 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张祖昌 |
主权项 | 1.一种涡旋流体排放设备,它包括多个涡旋,其上带有在涡旋体上相对形成的卷缘,在外周上设有一吸入孔用于吸入流体,在中心设有一排放孔用于排放流体,流体在通过驱动而形成的密封空间中被压缩,上述涡旋卷缘的末端通过末端密封件与镜面加工的相对涡旋表面接触,密封空间随着从所述吸入孔侧向所述排放孔侧的推进,其容积逐渐减小以便排放流体。每个所述相互接合的涡旋卷缘具有:一个没有不设置与镜面加工的相对涡旋表面接触的末端密封件的第一卷缘部分,因而在从卷缘的周围侧上的卷缘边缘向着中心侧的预定范围内,不考虑压缩流体,形成一个末端密封槽中的空的部分;以及一个在所述末端密封槽中带有末端密封件的第二卷缘部分,其余卷缘范围部分与所述第一卷缘部分相邻,第二卷缘部分向着中心侧卷缘边缘延伸,与镜面加工的相对涡旋表面接触。 | ||
地址 | 日本东京都 |