| 发明名称 | 稠合噻嗪衍生物及其制备和用途 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种下式化合物或其盐以及它们的制备和用途：其中R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>分别表示氢、通过碳原子键合的基团，通过氮原子键合的基团、通过氧原子键合的基团、或通过硫原子键合的基团；R<SUP>3</SUP>表示氢、卤素、通过碳原子键合的基团、通过氮原子键合的基团、通过氧原子键合的基团或通过硫原子键合的基团；W表示氧原子或硫原子；A表示在1，4-噻嗪环的3，4-位上形成含氮的稠合环的基团；R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>可以组合形成由一个或多个杂原子间断的二价烃基或者亚烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1163894A | 申请公布日期 | 1997.11.05 |
| 申请号 | CN97103113.4 | 申请日期 | 1997.03.12 |
| 申请人 | 武田药品工业株式会社 | 发明人 | 古矢修一;谷田清一;大田义一 |
| 分类号 | C07D513/04;A61K31/54;//(C07D513/04,279:00,249:00) | 主分类号 | C07D513/04 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 全菁 |
| 主权项 | 1.一种下式化合物或其盐：<img file="A9710311300021.GIF" wi="661" he="319" />其中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>分别表示氢、通过碳原子键合的基团，通过氮原子键合的基团，通过氧原子键合的基团，通过硫原子键合的基团；R<sup>3</sup>表示氢、卤素、通过碳原子键合的基团、通过氮原子键合的基团、通过氧原子键合的基团或通过硫原子键合的基团；W表示氧原子或硫原子；A表示在1，4-噻嗪环的3，4-位上形成含有氮的稠合环的基团；R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>可以组合形成由1个或多个杂原子间断的二价烃基或亚烷基。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||