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发明名称 METHOD OF DEVELOPING POSITIVE PHOTORESIST AND COMPOSITIONS THEREFOR
摘要
申请公布号 EP0804753(A1) 申请公布日期 1997.11.05
申请号 EP19960904493 申请日期 1996.01.19
申请人 HOECHST CELANESE CORPORATION;IBM 发明人 FICNER, STANLEY, A.;MAGVAS, JOHN;LYONS, CHRISTOPHER, F.;MOREAU, WAYNE, M.;PLAT, MARINA, V.
分类号 G03F7/022;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/32 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
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