发明名称 | 淀积膜形成装置和方法 | ||
摘要 | 一种淀积膜形成装置,其特征在于:用于控制淀积室壁温度的温度控制部件通过一热传导率调整板与淀积室外壁相接触,该热传导率调整板能在膜形成过程中抑制淀积室温度上升时防止过冷却,并且它能在膜淀积时长时间维持淀积室壁的温度在一优选温度,从而形成淀积膜。结果该装置能在一长时间内批量生产质量稳定的淀积膜,尤其是,大面积的和高质量的应用非晶半导体的光生伏打元件。 | ||
申请公布号 | CN1163944A | 申请公布日期 | 1997.11.05 |
申请号 | CN97104502.X | 申请日期 | 1997.03.18 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 吉田耕平;越前裕;金井正博;大利博和;吉野豪人;田中雅敏 |
分类号 | C23C16/52 | 主分类号 | C23C16/52 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
主权项 | 1.一种淀积膜形成装置,包括:一控制淀积室壁温度的温度控制部件,该部件通过热传导率调整板与所述的淀积室外壁接触。 | ||
地址 | 日本东京都 |