| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09289185(A) |
申请公布日期 |
1997.11.04 |
| 申请号 |
JP19960099831 |
申请日期 |
1996.04.22 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
HIRANO KATSUHIKO;ENOMOTO KUNIO;HAYASHI MAKOTO;MIURA HIDEO;ITO KATSUHIKO |
| 分类号 |
B08B3/02;B08B3/12;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B08B3/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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