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发明名称 ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM
摘要
申请公布号 JPH09289154(A) 申请公布日期 1997.11.04
申请号 JP19960102336 申请日期 1996.04.24
申请人 ADVANTEST CORP 发明人 IHARA TOSHIYUKI
分类号 G03F7/20;H01J37/28;H01J37/305;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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