| 发明名称 |
FORMATION OF FIELD OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09283612(A) |
申请公布日期 |
1997.10.31 |
| 申请号 |
JP19960317891 |
申请日期 |
1996.11.28 |
| 申请人 |
GENDAI DENSHI SANGYO KK |
发明人 |
KEN SEIKIYUU;RI NORISHIGE |
| 分类号 |
H01L21/76;H01L21/3105;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/76 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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