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发明名称 Plasma process for etching multicomponent alloys
摘要
申请公布号 EP0788147(A3) 申请公布日期 1997.10.29
申请号 EP19970300554 申请日期 1997.01.29
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 MA, DIANA XIAOBING;TAJIMA, DAISUKE;ZHAO, ALLEN;LOEWENHARDT, PETER K.;WEBB, TIMOTHY R.
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/00;C23F1/00 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
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