发明名称 |
直接沉积含金属的图案化膜的方法 |
摘要 |
公开了一种制作金属氧化物、金属或其他含金属的材料的布线图案膜的无光刻胶的方法。该法包括将金属络合物的无定形膜涂覆到一种基材上。该膜可用标准的工业技术,用旋转涂布法很容易涂覆。所用的金属络合物是光反应性的,在适合波长的光存在下,可进行低温化学反应。反应的最终产物取决于进行反应的气氛。在空气中可制得金属氧化物膜。通过仅将膜的选择的部分暴露到光中,可制得布线图案的膜。通过将膜的不同部分在不同气氛中暴露到光中的方法可由相同的膜得到两种或两种以上材料的布线图案。生成的布线图案的膜通常是平面的。通常不需要单独的平整步骤。 |
申请公布号 |
CN1163637A |
申请公布日期 |
1997.10.29 |
申请号 |
CN95196173.X |
申请日期 |
1995.11.10 |
申请人 |
西蒙·弗雷泽大学 |
发明人 |
R·H·希尔;B·J·帕尔默;A·A·小·埃维;S·L·布莱尔;朱俶慧;高美华;罗伟能 |
分类号 |
C23C18/14 |
主分类号 |
C23C18/14 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈季壮 |
主权项 |
1.一种在基材上制作含金属的材料的图案的方法,所述的方法包括下述步骤:(a)将金属配合物的无定形膜沉积在基材表面上;(b)将所述的膜放在第一种气氛中;以及(c)将所述膜的第一区域暴露到电磁辐射中,使所述的第一区域内的所述金属配合物进行光化学反应,所述的反应使所述的第一区域内的所述金属配合物转变成第一种含金属的材料,粘附到所述的基材上。 |
地址 |
加拿大不列颠哥伦比亚 |