发明名称 CATHODIC SPUTTERING DEVICE
摘要 <p>Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat (27) mittels einer in einer Vakuumkammer einbringbaren Zerstäubungskathode (2), die mit Bezug auf die Mittelachse (44) der Zerstäubungskathode (2) rotationssymmetrisch ausgebildet ist und deren Oberfläche (41) mit Bezug auf die Targetrückseite (40) zumindest teilweise geneigt verläuft. Eine mit Bezug auf die Targetrückseite (74) schräg verlaufende Targetoberfläche (41) oder zumindest ein Teil dieser schließt mit der Targetrückseite (74) einen Winkel ein und die Targetoberfläche (41) liegt zwischen weiteren Targetoberflächen (76, 78), die mit der schräg verlaufenden Targetoberfläche (41) ebenfalls einen Winkel Σ, ν, α einschließen.</p>
申请公布号 WO1997039161(A1) 申请公布日期 1997.10.23
申请号 EP1997001871 申请日期 1997.04.14
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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