| 发明名称 |
Process for preparing high crystallinity oxide thin film and film deposition apparatus for the process |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0698932(A3) |
申请公布日期 |
1997.10.22 |
| 申请号 |
EP19950401947 |
申请日期 |
1995.08.24 |
| 申请人 |
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. |
发明人 |
NAKAMURA, TAKAO |
| 分类号 |
C01B13/14;C01G1/00;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/24;H01L39/24;(IPC1-7):H01L39/24 |
主分类号 |
C01B13/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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