发明名称 多层光聚物全像照片之层合方法
摘要 本发明系有关一种制作多层光聚物全像照片构造物之过程,并不干扰位于组成光聚物层之间的黏着层。此种过程的步骤包括了:使第一光聚物记录层对全像照片形成光曝光;使已全息摄影曝光之第一光聚物记录层对紫外线光曝光;藉以利用紫外线部分地硬化第一光聚物记录层;使第二光聚物记录层对全像照片形成光曝光;使已全息摄影曝光之第二光聚物记录层对紫外线光曝光一段时间,此段时间短得足以保存第二光聚物记录层之胶黏性;将第二光聚物记录层覆在第一光聚物记录层上,藉以形成层式光聚物构造,层式光聚物构造有着上与下光聚物表面;烘乾层式光聚物构造,同时让层式光聚物构造接受均匀的压力;使层次光聚物构造对紫外线光曝光。
申请公布号 TW318210 申请公布日期 1997.10.21
申请号 TW084109135 申请日期 1995.08.30
申请人 休斯飞机公司 发明人 尹庆;约翰里德;凯文
分类号 G02B5/32 主分类号 G02B5/32
代理机构 代理人 张文仁 台北巿八德路三段八十一号七楼之七
主权项 1.一种用以制作多层光聚物全像照片构造之方法,包含下列各步骤:(a)使第一光聚物记录层对全像照片形成光曝光;(b)使已全息摄影曝光之第一光聚物记录层对紫外线光曝光,藉以利紫外线部分地硬化第一光聚物记录层;(c)使第二光聚物记录层对全像照片形成光曝光;(d)使已全息摄影曝光之第二光聚物记录层对紫外线光曝光一段时间,此段时间短得足以保住第二光聚物记录层之胶黏性;(e)将第二光聚物记录层覆在第一光聚物记录层上,藉以形成层式光聚物构造,层式光聚物构造有着上与下光聚物表面,其中,第二光聚物层与第一光聚物层作直接层接触;(f)使第二光聚物记录层对紫外线光曝光,利用紫外线部分地硬化第二光聚物记录层;(g)对上述两层层式光聚物构造的上与下表面施用一个均匀的压力;(h)在对上述两层层式光聚物构造的上与下表面施用一个均匀压力的同时,烘乾此两层层式光聚物构造;以及(i)使上述两层层式光聚物构造对紫外线光曝光。2.如申请专利范围第1项之方法,其中,对上述层式光聚物构造的上与下表面施用均匀压力的步骤有着下列的步骤:(1)将层式光聚物构造放进一个真空袋内;以及(2)将真空袋抽为真空。3.如申请专利范围第1项之方法,进一步地包含了下列各步骤:(j)使第三光聚物记录层对全像照片形成光曝光;(k)使已全息摄影曝光的第三光聚物记录层对紫外线光曝光一段时间,此段时间短得足以保住第三光聚物记录层的胶黏性;(l)将第三光聚物记录层叠覆在此二层层式光聚物构造,藉以形成一个有着上与下表面的三层层式光聚物构造,其中,第三光聚物层与第一及第二光聚物层的一者作直接的层接触;(m)对上述三层层式光聚物构造的上与下表面施用一个均匀的压力;(n)在对上述三层层式光聚物构造的上与下表面施用均匀压力之同时,烘乾此三层层式光聚物构造;以及(o)使上述三层层式光聚物构造对紫外线光曝光。图示简单说明:第一a图与第一b图揭櫫了依照本发明之过程的流程图。第二图简要地图示出依照第一a图与第一b图所示过程作的两光聚物层的叠覆。第三图流程图揭櫫了依照本发明之另一过程。第四图简要地图示出依照第三图所示过程作的光聚物层的叠覆。
地址 美国