| 发明名称 |
METHOD OF CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09275084(A) |
申请公布日期 |
1997.10.21 |
| 申请号 |
JP19960335995 |
申请日期 |
1996.12.16 |
| 申请人 |
TEXAS INSTR INC (TI) |
发明人 |
TOREESU KIYUU HAADO;POORU DABURIYU MAATENZU |
| 分类号 |
H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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