发明名称 制造灰度模版的方法
摘要 本发明涉及一种用于制造灰度模版的方法,在其中以边缘为限界并在其上叠加了灰度格(15)的图案(1)被转移到对射线敏感的基层上。在此情况下,格(15)连续地延伸到成为彼此相邻放置的图案(1)的边缘上,以便避免形成在印制图案相邻边缘区域中的条纹。
申请公布号 CN1162233A 申请公布日期 1997.10.15
申请号 CN96106964.3 申请日期 1996.07.10
申请人 库夫施泰因模板技术公司 发明人 西格弗里德·霍尔法特尔
分类号 H04N1/405 主分类号 H04N1/405
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 蹇炜
主权项 1、用于制造灰度模版的方法,在其中由边缘所限界并在其上叠加了灰度格(15)的图案(1)被转移到对射线敏感的基层中,其特征在于:格(15)连续地延伸到成为彼此相邻放置的图案(1)的边缘上。
地址 奥地利库夫施泰因