| 发明名称 |
TI TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09268368(A) |
申请公布日期 |
1997.10.14 |
| 申请号 |
JP19960078906 |
申请日期 |
1996.04.01 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
MISHIMA TERUSHI;MASHIMA MUNETAKA;MIKI SHUJI |
| 分类号 |
C23C14/34;C22C14/00;C23C14/35;H01L21/203;H01L21/3205;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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