| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09266097(A) |
申请公布日期 |
1997.10.07 |
| 申请号 |
JP19960103574 |
申请日期 |
1996.03.29 |
| 申请人 |
SEIKO EPSON CORP;ULVAC JAPAN LTD |
发明人 |
MIYASHITA TAKESHI;YODA HIDENORI;YAMAGUCHI HISAO |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/50;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/66;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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