| 发明名称 |
Inductively coupled plasma chemical vapour deposition; lined dielectric shield |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2311298(A) |
申请公布日期 |
1997.09.24 |
| 申请号 |
GB19970005608 |
申请日期 |
1997.03.18 |
| 申请人 |
* HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD.;JANG * JIN |
发明人 |
JANG * JIN;KIM * JAE-GAK;CHO * SE-I1 |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/24;C23C16/34;C23C16/44;C23C16/507;H01J37/32;H01L21/20;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):C23C16/44 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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