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发明名称 INTERCONNECTION LAYER FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SUCH INTERCONNECTION LAYER
摘要
申请公布号 JPH09252001(A) 申请公布日期 1997.09.22
申请号 JP19960060395 申请日期 1996.03.18
申请人 NKK CORP 发明人 TAKEUCHI NOBUYOSHI
分类号 H01L21/28;H01L21/203;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/318;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/320;H01L21/306 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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