| 发明名称 |
PROCESS OF PLASMA-CHEMICAL ETCHING OF MATERIALS FOR MICROELECTRONICS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
RU2090951(C1) |
申请公布日期 |
1997.09.20 |
| 申请号 |
RU19950110215 |
申请日期 |
1995.06.16 |
| 申请人 |
INSTITUT MIKROELEKTRONIKI RAN |
发明人 |
AMIROV ILDAR ISKANDEROVICH;IZYUMOV MIKHAIL OLEGOVICH |
| 分类号 |
H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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