| 发明名称 | 电磁波屏蔽膜及其形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了优良的电磁波屏蔽膜，该电磁波屏蔽膜的特征是由在构成受到电磁波障碍的电子装置类的绝缘体基板至少一个面上形成的底层，和在该底层表面上形成的金属层组成的电磁波屏蔽膜，上述底层由10-60wt％的复合金属氧化物水合物和40-90wt的粘合剂构成，上述金属层通过非电解镀铜或镍而构成。 | ||
| 申请公布号 | CN1159733A | 申请公布日期 | 1997.09.17 |
| 申请号 | CN96122707.9 | 申请日期 | 1996.09.04 |
| 申请人 | 吉野电化工业株式会社 | 发明人 | 永池一平;水口良藏;簗濑正知 |
| 分类号 | H05K9/00;C09K3/00 | 主分类号 | H05K9/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨丽琴 |
| 主权项 | 1、电磁波屏蔽膜，其特征是由在构成受到电磁波障碍的电子装置类外壳的绝缘基板的至少一个面上形成的底层，和在该底层的表面形成的金属层构成的电磁波屏蔽膜，上述底层是10-60wt％的复合金属氧化物水合物和40-90wt％的粘合剂构成，上述金属层是通过无电解镀铜和/或镍而构成。 | ||
| 地址 | 日本崎玉县 | ||