Process and apparatus for high frequency plasma polymerization

摘要

Die Erfindung betrifft eine Verfahren zur Hochfrequenz-Plasmapolymerisation für die Abscheidung von Polymerschichten auf der Oberfläche von Substraten, bei dem ein monomerer Dampf einer organischen Verbindung unter der Wirkung einer Hochfrequenz-Gasentladung polymerisiert wird, wobei die Substrate (2) als Elektrode der Hochfrequenz-Gasentladung geschaltet werden und die plasmaerzeugende hochfrequente Spannung innerhalb der Beschichtungskammer (1, 12) und im wesentlichen in unmittelbarer Nähe der Substrate (2) oder der Substrathalterungen (3, 15) erzeugt wird. Bei einer Vielzahl von Substraten (2) wird die plasmaerzeugende hochfrequente Spannung an jedem Substrat (2) oder an jeder Gruppe von Substraten erzeugt. Die zugehörige Einrichtung gibt eine Anordnung an, bei der die Substrate (2) in der Beschichtungskammer (1, 12) gegeneinander isoliert angeordnet sind und jedes Substrat (2) direkt oder über eine Substrathalterung (3, 15) mit einer separaten Endstufe (7, 16) einer Hochfrequenz-Erzeugereinheit elektrisch kontaktiert ist. <IMAGE>