发明名称 |
DEVICE AND METHOD FOR FORMING THIN FILM AND MANUFACTURE USING THE SAME OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH09228040(A) |
申请公布日期 |
1997.09.02 |
申请号 |
JP19960030259 |
申请日期 |
1996.02.19 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SAITO TATSUYUKI;FUKUDA NAOKI |
分类号 |
C23C14/34;H01L21/203;H01L21/768;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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