| 主权项 |
1.一种在多床下流式反应器内用以分布液体和气体之分布装置,其包括:(i)一个实质上水平之收集盘,其具有被堰环绕之中央气体通路,及具有液体通路围绕着堰;(ii)一个实质上水平之分布盘位于收集盘下方,该分布盘具有多个供液体和气体向下流之下流管;(iii)一个流体转向板位于收集盘之中央气体通路上方;(iv)一个在收集盘和分布盘间所界定之混合室;(v)具有第一末端和第二末端之开口导管,其中第一末端和收集盘之液体通路连接,且第二末端开口在混合室中,其中第二末端系经如此配置,以致在正常操作下,来自第二个末端之液流会互相冲击。2.根据申请专利范围第1项之分布装置,其进一步包括用于分布骤冷流体之装置,此装置系位于收集盘之上方。3.根据申请专利范围第1项之分布装置,其进一步包括一个经安排在该开口导管和分布盘间之实质水平预分布盘,该预分布盘在其周边具有溢流堰,且在靠近周边处有许多开口。4.根据申请专利范围第1至3项中任一项之分布装置,其中流体转向板是由具有孔口之支架所支撑。5.根据申请专利范围第4项之分布装置,其中孔口具有气体旋涡装置。6.根据申请专利范围第1至3项中任一项之分布装置,其包括至少8个开口导管及相应之液体通路。7.根据申请专利范围第1至3项中任一项之分布装置,其中开口导管之第二个末端系经安排在相同水平面上。8.根据申请专利范围第1至3项中任一项之分布装置,其中各下流管系包括一个向上直立、开口的管,在其侧面有孔口让液体流入管内。9.一种多床下流式反应器,其包括固体接触材料之垂直间隔床,及位于相邻床间之分布装置,其中该分布装置系如申请专利范围第1至3项中任一项所定义。10.根据申请专利范围第9项之多床下流式反应器,其系用于烃处理。图示简单说明:图一图示本发明第1个具体实例之具有分布装置的多床下流式反应器垂直截面之一部份;且图二图示本发明第2个具体实例之具有分布装置的多床下流反应器垂直截面之一部份,其包括用于分布骤冷流体之装置。 |
