| 主权项 |
1﹒一种连续过滤污染液体以除去其中污物之方法,包括下列步骤:(a)将该液供应至一液体净化系统,此系统具有一槽,其中有一供该液用之开口滤床。(b)使该液渗过在该滤床内之上层与下层粒状滤质以除去其中污物;(c)回洗该上层与下层之各相继部份似移脱滤集于其中之污物,以预定之第一段定时间隔,不管该槽内该液之水平而顺序自该槽之一端开始至其另一端终止;(d)配合该槽内该液平面上升至一可选择之预定较高水平而中止该第一段定时间隔;(e)回洗该上层与下层之相继部份似移脱滤集于其中之污物,配合该第一段定时间隔之中断,顺序自该槽之一端开始并于该液面降落至该槽内之一预经选定之较低水平时终止;(f)随步骤(e)终止后,以该第一段定时间隔再回洗该上层与下层;(g)补充相继部份之滤床之至少上层,以此该第一段定时间隔持续较久之第二段定时间隔,自该槽之该一端开始前于该相对端终止;以及(h)在该相继部份之回洗与补充之际将该液不断渗过该上层与下层之其余部份。2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中渗过该液包括:将该液法过该滤床内之一上层粗粒滤质,并经过该滤床内该上层以下之一下层细粒滤质,以除去其中污物。3﹒根据上述请求专利部份第2项之方法,其中 该上层滤质比该下层之密度较低以保持回洗后该上层与下层分者。4﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中以预定之第一段定时间隔回洗相继部份之该上层与下层包括:配合一定时装置,以预定之时间间隔回洗相继部份之上层与下层以移脱滤集于其中之污物,顺序于该槽之一端开始而于其一相对端终止;以及配合该定时装置之作用以次一定时间隔回洗相继部份之上层与下层,自该相对端开始而于该一端终止。5﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中补充相继部份之至少该上层包括:回洗该相继部份内该上层与下层以展开该上层与下层;于该相继部份该滤床之至少该上层内插入一补充装置;经该补充装置抽出至少该上层以自该液体净化系统移去;经该补充装置供应至少一新鲜上层粒状滤质于该相继部份;自该相继部份该滤床内移去该补充设备;以及顺序移动该补充装置至该滤床须要补充之次一部份。6﹒根据上述请求专利部份第5项之方法,其中抽出至少该上层步骤之步骤包括;对该补充装置施一吸力,经该补充装置以抽出至少该上层。7﹒用以实施以上请求专利部份第1项方法之设备,包含:一槽;该槽内一开口滤床,含上层与下层粒状滤质供应污液至该槽之供应装置,用以渗过该上层与下层而自该液除去污物;定时装置;回洗装置,不管该槽内该液之水平出该定时装置以预定之为一段定时间隔发动,供回洗相继部份之该上下层以移脱滤集于其中之污物,顺序自该槽之一端开始而于其另一端终止;侦检装置、配合该液上升至该槽内之一预定之较高水平、以阻继该定时装置之操作而发动该回洗装置,并配合该降落至该槽内之一预定较低水平,停止发动该回洗装置而恢复该定时装置;控制装置;以及补充装置,与该回洗装置联结,经该控制装置以比该第一段定时间隔持续较久之第二段定时间隔发动,以顺序自该槽之一端开始、至其相对一端终止,补充相继部份之至少该上层,在该相继部份之回洗与补充期间将该污液不继渗过该上层与下层之其余部份。8﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,包含下第一转换装置,在一后继之第一段定时间隔后该定时装置发生作用时,回复该回洗装置至该一端;及一第二转换装置,在下一次随后之第一段定时间隔后该定时装置发生作用时,回复该回洗装置至该相对端。9﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,又包含:一第一转换装置,在该回洗装置达到该相对端时经该侦检装置之作用回复该回洗装置至该一端;及一第二转换装置,在该回洗装置达到该一端时使回复至该相对端。该第一与第二转换装置于该回洗装置达到该一端及该相对端时不断逆转其方向、以迄该液面降落至该预定之较低水平以下,随即将该回洗装置停止于该两端之一端。10﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该定时装置包含一电动定时器,可预定于所选间隔发动该回洗装置;及该侦检装置包含一高液面探针,接电于该回洗装置与该电动定时器,配合该槽内该污液上升之接触而电力胜过该电动定时器,使该回洗装置发生作用,及一低液面探针,接电于该回洗装置与该电动定时器,当该污液降落至该低液面探针以下时停止发动该回洗装置并重量该电动定时器。11﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该补充装置包含:一输送装置,能插入至少该滤床该相继部份中粒状滤质之该上层内,该输送装置有:一中空导管装置,一连结该导管装置之真空装置,使在该导管装置中产生一真空以抽出至少该上层,经该 导管装置而排出该槽之外,及一供应装置,于移除至少该上层之后,经该导管在脱离该真空装置与该导管装置时供应至少一新鲜上层之粒状滤质至该相继部份。12﹒根据上述请求专利部份第11﹒项之设备,其中该输送装置能插入该相继部份中展开之该上层与下层内,以便利该导管装置之插入。13﹒根据上述请求专利部份第7﹒项之设备,其中该上层与下层包含一粒状滤质,该上层所有颗粒比该下层之颗粒直径较大而密度较低。14﹒根据上述请求专利部份第13﹒项之设备,其中该上层与该下层系成垂直紧靠之关系。15﹒根据上述请求专利部份第13﹒项之设备,其中该滤床又包含:一多孔隔片,介于该上层与下层之间。该多孔隔片中具有充分直径之洞孔,能容该污液内之悬浮粒子于渗滤期间穿过该洞孔而被该下层捕集,并于该上层与下层回洗期间经该洞孔回送,但于过滤时阻止该上层颗粒通过该洞孔,又能容该上层经该补充装置移脱而不致除去该下层。16﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该下层系砂,具有大致为每立方公分2﹒07公克之密度,大致在0﹒60公厘至0﹒65公厘范围之颗粒大小以及不超过1﹒5之均一系数。17﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该上层系无煤,具有大致为每立方公分1﹒6公克之密度,大致在0﹒85公厘至0﹒95公里范围之颗粒大小。18﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该上层系活性碳粒,具有大致为每立方公分1﹒5公克之密度,大致在0﹒85公厘至1﹒05公厘范围之颗粒大小,及不超过1﹒8之均一系数。19﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该上层系属沸石,具有大致为每立方公分1﹒4公克之密度及大致在0﹒70公厘至1﹒19公厘范围之颗粒大小。20﹒根据上述请求专利部份第14项之设备,其中该下层系砂,而该上层系无煤。21﹒根据上述请求专利部份第15项之设备,其中该下层系砂,而该上层系活性碳粒。22﹒根据上述请求专利部份第15项之设备,其中该下层系砂,而该上层系沸石。23﹒根据上述请求专利部份第7项之设备,其中该滤床之深度大致为40﹒64公分。24﹒根据上述请求专利部份第23项之设备,其中该下层深度大致为20﹒32公分,该上层深度大致为20﹒32公分。25﹒根据上述请求专利部份第23项之设备,其中该下层深度大致为21﹒94公分,该上层深度大致为12﹒70公分。 |
