| 发明名称 |
METHOD FOR MANUFACTURING INSULATOR LAYER STRUCTURE BURIED IN SEMICONDUCTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09223671(A) |
申请公布日期 |
1997.08.26 |
| 申请号 |
JP19960029016 |
申请日期 |
1996.02.16 |
| 申请人 |
JAPAN AVIATION ELECTRON IND LTD |
发明人 |
ITO KAZUHIKO |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L21/02;H01L21/203;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/203 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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